X 射線熒光
了解有關 XRF 和使用 Rigaku EDXRF 技術的更多信息
什麼是 EDXRF 光譜？
EDXRF（能量色散 X 射線螢光）是一種無損分析技術，可對各種基質（從低 ppm 到高重量百分比濃度）進行快速定性和定量元素分析。它是一種常見的 X 射線螢光 (XRF) 類型，因為它為確定元素成分提供了快速、可靠且經濟的解決方案。 EDXRF 滿足許多分析需求 - 從測試和篩選油和液體到分析固體、金屬、聚合物、粉末、糊劑、塗層和薄膜 - 同時仍然適合預算並且僅佔用實驗室或測試設施中的少量空間。
與其他技術相比，EDXRF 儀器易於使用且價格低廉。樣品準備工作最少，而且由於 EDXRF 是一種非破壞性技術，因此樣品可以保存而不被破壞。它是許多行業和應用的絕佳選擇。
- EDXRF 是一種無損分析技術，可對各種基質進行快速多元素分析。
- EDXRF 可以透過鈾測量鈉，具體取決於應用。
- EDXRF 系統易於使用，幾乎不需要樣品準備，並且擁有低成本。
- EDXRF 應用範圍從工業和廠內品質保證到研究和開發等。
- EDXRF 測量被偵測元素的 X 射線能量。
EDXRF 的工作原理是什麼？
EDXRF 是一種依賴樣品 X 射線激發的光譜技術。 X射線是電磁波譜的一部分，類似於可見光和紫外光，但X射線具有更高的能量，並且可以穿過樣品材料。在 EDXRF 中，源 X 射線穿透材料，使其發出樣品中元素特有的獨特能量 X 射線螢光。
Rigaku EDXRF 光譜儀使用 1 – 65 keV 能量範圍內的 X 射線，並利用光電效應來確定元素成分。這種效應是指當入射 X 射線照射樣品中的原子時，樣品材料會激發並以 X 射線的形式發出螢光能量。當這種現象發生時，電子從內部原子軌道噴射，導致較高能量軌道的電子轉移並填充較低能量軌道的空位。多餘的能量以 X 射線的形式發射，光譜儀對從樣品發射的這些 X 射線的能量進行計數和測量。對於特定元素，每個殼層之間的能量差異始終相同，因此光譜儀可以識別並量化樣品中的元素。
當電子從外層原子殼落入內層原子殼時，這些 X 射線躍遷線會在光譜中產生峰值。每條躍遷線都會在元素光譜中的特定能量產生一個峰值。
EDXRF 技術的演變
多年來，XRF 逐漸成為測量各種材料中原子元素濃度的首選分析工具。由於 X 射線源、光學和探測器技術的不斷發展和革命性突破，它已成為更強大的定量技術。
從 20 世紀 50 年代中期商用波長色散 X 射線螢光 (WDXRF) 光譜儀的推出，到 20 世紀 70 年代初能量色散 X 射線螢光 (EDXRF) 儀器的開發，經濟實惠的計算能力的不斷增加對於XRF 技術的可取性和接受度。隨著 20 世紀 80 年代中期個人電腦 (PC) 作為行業標準平台的廣泛普及和使用，XRF 技術變得更加容易獲得，並且它們提供了比早期原子光譜分析技術更低的擁有成本替代方案。
如今，隨著 EDXRF 的最新發展，EDXRF 光譜儀將 XRF 技術的分析靈敏度和易用性提升到了新的水平。
了解更多關於理學 EDXRF 的信息
許多行業和組織使用 Rigaku EDXRF 儀器來解決其分析需求。應用範圍從工業和廠內品質保證到研發、農業、採礦等。應用理學科技 (Applied Rigaku Technologies) 為使用者提供先進、高品質的 EDXRF 分析儀，並以理學創新和多年的 EDXRF 經驗為後盾，提供以客戶為中心的解決方案和支援。
我們的產品組合
我們的桌上型 EDXRF 系統是多元素分析儀，可提供快速定性和定量元素分析並滿足許多應用的需求。它們可以對幾乎任何基質中從低 ppm 水平到高重量百分比濃度的鈉到鈾進行無損分析。我們的桌上型產品組合包括緊湊型 NEX QC Series 對於日常品質控制需求，高性能 NEX DE系列 適用於批量和小點分析應用，以及先進的 NEX CG II Series 用於微量元素和可變基矩陣的間接激發分析儀，非常適合複雜的應用和研究。
為了滿足即時製程控制需求，我們提供連續測量和監控工業製程的內聯和線上解決方案，以便技術人員可以控製品質和成本。過程控制系統包括 NEX XT 用於原油、船用燃料和混合作業的總硫分析儀， NEX OL 用於液體流的多元素過程分析儀，以及 NEX LS 適用於捲材和卷材應用的掃描多元素塗層分析儀。